뉴스1삼성전자와의 산학협력 과정에서 최첨단 반도체 공정에 적용될 수 있는 차세대 극자외선(EUV) 공정 기술을 빼돌린 국내 유명 대학 산학협력단 연구원이 재판에 넘겨졌다.
27일 서울경제신문 취재를 종합하면 서울중앙지방공소청 중대범죄기소5부(부장검사 박경택)는 전날 국내 유명 대학 연구원 A 씨를 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률(산업기술보호법) 위반 혐의로 불구속 기소했다.
A 씨는 삼성전자 재직 당시 반도체 공정 자료를 개인 클라우드에 무단으로 유출하고 산학협력 과정에서도 이를 이용한 혐의를 받는다. 산학협력 연구원으로 활동하는 과정에서 일정 기간 삼성전자 직원 신분으로 회사 내부 기술 정보에 접근할 수 있다는 점도 악용한 것으로 알려졌다.
A 씨가 무단 반출한 자료는 삼성전자가 아직 출시하지 않은 차세대 반도체 제품의 EUV 노광 공정에 관한 핵심 기술 정보로 반도체 회로 형성에 사용되는 포토레지스트(PR)의 종류를 비롯해 공정 온도와 용매 등 세부 공정 조건 등이 포함된 것으로 알려졌다. EUV는 극도로 짧은 파장의 빛을 활용해 반도체 웨이퍼에 미세한 회로를 새기는 기술로 반도체의 집적도를 높이고 공정 단계를 줄이는 데 핵심적인 역할을 한다.
공소청은 일부 기술 정보가 외부로 유출된 정황도 있을 것으로 의심하고 있다. 다만 해당 기술 자료가 중국 등 해외로 넘어간 사실은 확인되지 않았다. 삼성전자 측이 자료 반출 사실을 비교적 신속하게 파악하면서 국외 유출로 이어지기 전에 수사가 이뤄진 것으로 알려졌다. 공소청은 반출된 기술의 중요성 등을 고려해 A 씨에 대한 구속영장을 청구했지만 법원은 A 씨가 수사에 협조한다는 점을 들어 이를 기각했다.
법조계의 한 관계자는 “기존 유출 방식과는 다른 변종 수법”이라며 “실제 상용화되기 전의 공정 정보가 외부로 넘어갔다는 사실만으로 기업에 막대한 피해를 줄 수 있다”고 말했다.
공소청은 일부 기술 정보가 외부로 유출된 정황도 의심
다만 현재 해당 기술 자료가 중국 등 해외 유출여부는 확인 중
공소청은 A씨에 대한 구속영장을 청구했지만, 법원은 A 씨가 수사에 협조한다고 이를 기각 ..
